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清洁印染(微胶囊染色)技术及装备

清洁印染(微胶囊染色)技术及装备

●染色时不需要任何助剂,染色废水可直接排放或循环使用,从污染源头彻底解决了印染潜水治理难题,实现无污染染色,是染整行业清洁生产的重大突破。●染色后无须任何洗涤,节约了传统染色工艺中后水洗所消耗的大量用水和热能。●染色可在传统的高温高压染色机上实施,只需稍加改造,加装一台染料萃取机即可,易于掌握、推广应用。●匀染性及各项色牢度等染色质量指标达到或优于传统染色工艺●属国际首创拥有4项发明专利 专利号Z
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● 染色时不需要任何助剂,染色废水可直接排放或循环使用,从污染源头彻底解决了印染潜水治理难题,实现无污染染色,是染整行业清洁生产的重大突破。
● 染色后无须任何洗涤,节约了传统染色工艺中后水洗所消耗的大量用水和热能。
● 染色可在传统的高温高压染色机上实施,只需稍加改造,加装一台染料萃取机即可,易于掌握、推广应用。
● 匀染性及各项色牢度等染色质量指标达到或优于传统染色工艺
● 属国际首创拥有4项发明专利
 
专利号ZL03116244.4国际专利主分类号:D06P1/16
专利号ZL03116242.8国际专利主分类号:C09B67/38
专利号ZL03116243.6国际专利主分类号:C09B67/38
专利号ZL200410054220.9
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